Новые возможности методов рентгеноспектрального микроанализа Н.П. Ильин НПП «Квант»

Исследование отраженных электронов

Схема прибора с анализатором отраженных электронов

Спектры отраженных электронов от различных элементов

Зависимость интенсивности спектра ОЭ от атомного номера 1 – при E=30кВ; 2 – при 20кВ; 3 – при 10кВ.

Результаты анализов сплавов Cu-Bi и Cu-Pt по спектру отраженных электронов. образецIмакс отн. ед. Z эфф C% Cu Измерено по ОЭ C% Cu Химич. анализ 1 Bi Bi Cu Bi Cu Bi Cu Bi Cu Cu Pt Cu Pt

Аналитическая электронная микроскопия Результаты определения состава и толщины пленок FeNiMo Результаты анализа пленок с поправками ОбразецТолщина мкг/см 2 Fe c %Ni c %Mo c% Пленка «20» Пленка «40» Пленка «60» Пленка «80» Пленка «100» Среднее по пленкам Хим. анализ масс. сплава Al-Ni-CuρD мкг/см 2 C Al %C Ni %C Cu %Σ C % Без поправки С поправкой

Рентгенофлуоресцентный микроанализ СХЕМА РЕНТГЕНОФЛУОРЕСЦЕНТНОГО МИКРОАНАЛИЗАТОРА

Рентгенофлуоресцентный микроанализатор 1972 г.

Тонкослойная хроматография + Рентгенофлуоресцентный микроанализ Распределение Mo по различным ионным формам Распределение Ni (1) и Co (2) на хроматограмме

Рентгенофлуоресцентный микроанализ в тонких слоях Навеска пробы: милли - микрограмм. Предел обнаружения до % Абсолютный предел обнаружения до г.

Пределы обнаружения C min Ni на шлифах и в тонких слоях стандартов сталей. Пределы обнаружения элементов Cmin в тонких слоях синтезированного образца. СОС% NiОбразецC min, %t, сек. 3210,07 шлиф тонкий слой 0, ,16 шлиф тонкий слой 0,018 0, ,18 шлиф тонкий слой 0,017 0, ,19 шлиф тонкий слой 0,013 0, Элемент V Cr Mn Co Ni Fe С % 0,11 0,106 0,104 0,53 Сmin % 0,04 0,022 0,016 0,01 0,007 0,03

Разработанные методы рентгеноспектрального микроанализа Метод Локальность мкм Масса пробы, г Предел обнаружения г РСМА (электронный зонд) Электронные рассеян. спектры 0, Не определен. Аналитическая электр. микр-я 0, (теор ) Флуоресцентный микроанализ РФМА+ хим.обогащение РФМА+ТСХ АРФА