Интерферометр OPTOTL-ICO -60 разработанный и производимый в ЗАО «Опто-Технологическая Лаборатория» - презентация

1 Интерферометр OPTOTL-ICO -60 разработанный и производимый в ЗАО «Опто-Технологическая Лаборатория»

2 Назначение Предназначен для технологического контроля точности формы плоских и сферических полированных оптических поверхностей. Он может найти применение на оптических производствах, где изготавливаются различные оптические элементы и сборки оптических деталей Предназначен для технологического контроля точности формы плоских и сферических полированных оптических поверхностей. Он может найти применение на оптических производствах, где изготавливаются различные оптические элементы и сборки оптических деталей Интерферометр создан на основе общеизвестной схемы Физо, но для его конструкции разработаны и запатентованы некоторые новые узлы. Прибор оснащен программным обеспечением FastInterf, специально модернизированным для быстрой и точной обработки интерферометрических измерений, а также для простоты использования. Интерферометр создан на основе общеизвестной схемы Физо, но для его конструкции разработаны и запатентованы некоторые новые узлы. Прибор оснащен программным обеспечением FastInterf, специально модернизированным для быстрой и точной обработки интерферометрических измерений, а также для простоты использования.

3 Презентационный видеоролик интерферометра можно посмотреть ЗДЕСЬ ЗДЕСЬ

4 Уникальность прибора Небольшие размеры и компактность основного интерферометрического узла прибора (диаметр - порядка 80 мм и длина - порядка 250 мм) позволяют устанавливать его непосредственно на рабочих местах оптиков, а также встраивать в различные оптические схемы: с эталонными объективами, с компенсаторами для асферических поверхностей, с адаптивными зеркалами; Небольшие размеры и компактность основного интерферометрического узла прибора (диаметр - порядка 80 мм и длина - порядка 250 мм) позволяют устанавливать его непосредственно на рабочих местах оптиков, а также встраивать в различные оптические схемы: с эталонными объективами, с компенсаторами для асферических поверхностей, с адаптивными зеркалами; быстрота юстировки, что достигается благодаря большому полю зрения юстировочного канала и наличию у него дополнительного монитора; быстрота юстировки, что достигается благодаря большому полю зрения юстировочного канала и наличию у него дополнительного монитора; модульный принцип конструкции, благодаря чему прибор можно легко модернизировать, используя одни и те же модули на разных рабочих местах в пределах одного оптического участка, избегая затрат на приобретение дополнительного оборудования. модульный принцип конструкции, благодаря чему прибор можно легко модернизировать, используя одни и те же модули на разных рабочих местах в пределах одного оптического участка, избегая затрат на приобретение дополнительного оборудования.

5 Комплект поставки основной оптико-механический блок; основной оптико-механический блок; мониторы для юстировки и визуализации интерференционной картины; мониторы для юстировки и визуализации интерференционной картины; устройство для измерения радиусов на основе высокоточной шкалы Renishaw; устройство для измерения радиусов на основе высокоточной шкалы Renishaw; набор эталонных объективов (насадок); набор эталонных объективов (насадок); компьютер с программным обеспечением. компьютер с программным обеспечением.

6 Параметры основного блока апертура коллиматора – 60 мм; апертура коллиматора – 60 мм; габаритные размеры основного блока (без осветителя) - диаметр 80 мм, длина 250 мм; габаритные размеры основного блока (без осветителя) - диаметр 80 мм, длина 250 мм; источник света - лазер твердотельный 532 нм или гелий- неоновый 633 нм; источник света - лазер твердотельный 532 нм или гелий- неоновый 633 нм; кратность изменения масштаба изображения 3-10Х; кратность изменения масштаба изображения 3-10Х; ручная фокусировка в широких пределах для исключения влияния дифракции; ручная фокусировка в широких пределах для исключения влияния дифракции; вертикальное расположение «эталон сверху деталь снизу» - для контроля деталей на блоке; вертикальное расположение «эталон сверху деталь снизу» - для контроля деталей на блоке; возможность измерения проходящего волнового фронта (при наличии дополнительного эталона). возможность измерения проходящего волнового фронта (при наличии дополнительного эталона).

7 N F# Радиус эталонной поверхнос ти, мм Диаметр эталонной поверхности, мм Диапазон измеряемых радиусов (оптимальный для maxF#), мм Диапазон измеряемых радиусов (возможный), мм** 1Flatinfinity60 2Flatinfinity120 * 31:0.839CC49200CC-38CX*** 41:1.270CC5838CX-69CX150CC-69CX*** 51:1.8110CC5969CX-105CX110CC-105CX*** 61:2.7162CC60105CX-161CX50CC-161CX*** 71:4240CC60161CX-239CX30CX-239CX 81:6360CC60239CX-359CX150CX-359CX 91:9540CC60359CX-540CX330CX-540CX 101:12720CC60540CX-719CX510CX-719CX 111:15901CC60719CX-900CX690CX-900CX 121:3.3200CX60201CC-401CC201CC-410CC 131:6.6400CX60401CC-601CC401CC-610CC 141:10600CX60601CC-811CC 151: CX60811CC-1020CC Набор эталонных объективов. точность эталонной поверхности… /10 λ (проверено на интерферометре ZygoGPI с точностью эталонных объективов 1/20 λ) точность эталонной поверхности… /10 λ (проверено на интерферометре ZygoGPI с точностью эталонных объективов 1/20 λ)

8 Программное обеспечение вычисление всех стандартных параметров, характеризующих точность формы оптической поверхности: размах ошибки (P-V), средне-квадратичная ошибка (RMS), расфокусировка, аберрации, полиномы Цернике; вычисление всех стандартных параметров, характеризующих точность формы оптической поверхности: размах ошибки (P-V), средне-квадратичная ошибка (RMS), расфокусировка, аберрации, полиномы Цернике; представление результатов в разных видах, в том числе в виде 3D топографии поверхности; представление результатов в разных видах, в том числе в виде 3D топографии поверхности; вывод синтезированной интерференционной картины на экран для визуальной оценки адекватности расчета. вывод синтезированной интерференционной картины на экран для визуальной оценки адекватности расчета.