Технологическое моделирование (TCAD) Лабораторная работа 1.

Презентация:



Advertisements
Похожие презентации
Оборудование, используемое при реализации образовательных программ подготовки магистров в области проектирования и производства СБИС с топологическими.
Advertisements

Полупроводниковые микросхемы В настоящее время различают два класса полупроводниковых ИМС: биполярные и МДП ИМС в зависимости от используемых транзисторов.
Типы полевых транзисторов 1. с изолированным затвором - МДП - транзисторы - МНОП – элементы памяти - МДП – транзисторы с плавающим затвором - Приборы.
Конференция «Фундаментальные исследования материи» «Совершенствование технологического маршрута производства кремниевых фотоумножителей посредством компьютерного.
Лекция 15. Проблемы и предельные параметры планарной технологии. Наноэлектроника. Масштабирование при уменьшении планарных размеров. Диэлектрики с высокой.
УЧЕБНО-МЕТОДИЧЕСКИЙ КОМПЛЕКС ФГБОУ ВПО «ВОРОНЕЖСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ УНИВЕРСИТЕТ» Приборно-технологическое проектирование компонентной базы микро- и наноэлектроники.
МОДЕЛИРОВАНИЕ ТЕХНОЛОГИИ ФОРМИРОВАНИЯ МОЩНОГО СВЧ БИПОЛЯРНОГО ТРАНЗИСТОРА Ефремов В.А. (студент-дипломник, каф. микро и наноэлектроники, БГУИР) Снитовский.
Электрофизические свойства полупроводников Лектор – профессор кафедры Электроника Абдуллаев Ахмед Маллаевич Кафедра находится в комнате 323. Лекция 1.
Моделирование электрических процессов в электронных средствах с помощью OrCad PSpice.
Полупроводниковые микросхемы Полупроводниковая ИМС – это микросхема, элементы который выполнены в приповерхностном слое полупроводниковой подложки. Эти.
КАФЕДРА ИНТЕГРАЛЬНОЙ ЭЛЕКТРОНИКИ И МИКРОСИСТЕМ. КОМПЛЕКТ ЛАБОРАТОРНЫХ ПРАКТИКУМОВ 1.Лабораторный практикум на основе комплекса техно- логического оборудования.
Компьютерная электроника Лекция 8. Устройство биполярного транзистора.
Полевые транзисторы Мытарев А.В. Мытарев А.В. Яковлева Д.А. гр
Моделирование совмещенных МОП приборов с нанометровыми размерами В. В. Ракитин ФГУП НИИ физических проблем им. Ф. В. Лукина.
ТЕХНОЛОГИЯ ВИРТУАЛЬНОГО ПРОЕКТИРОВАНИЯ С ПРИМЕНЕНИЕМ ПРОГРАМНОГО КОМПЛЕКСА АСОНИКА 1.
ФГБОУ ВПО «МОРДОВСКИЙ ГОСУДАРСТВЕННЫЙ УНИВЕРСИТЕТ ИМ. Н. П. ОГАРЁВА» ДОПОЛНИТЕЛЬНАЯ ПРОФЕССИОНАЛЬНАЯ ПРОГРАММА ПОВЫШЕНИЯ КВАЛИФИКАЦИИ « ПРОИЗВОДСТВО ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ.
Оборудование, используемое при реализации образовательных программ переподготовки в области проектирования и производства СБИС с топологическими нормами.
Лекция 14. Элементы планарной технологии. Гетерограница Si-SiO 2 и её свойства. Рост кристаллов и плёнок, окисление. Металлизация, изоляция в СБИС, диэлектрики.
Выполнили студенты группы Никитин Н.Н. Дроздов А. В.
Лабораторная работа 2Моделирование полевого транзистора Шотки в рамках диффузионно-дрейфовой и гидродинамической моделей Выполнил: Бобков А.А. Группа:8208.
Транксрипт:

Технологическое моделирование (TCAD) Лабораторная работа 1

Основные операции микро- и нанотехнологии Нанесение вещества (газовая и жидкостная эпитаксия, нанесение из газовой фазы, плазменное осаждение и др.); Удаление вещества (жидкостное и плазменное травление, шлифование и полировка); Модифицирование вещества (окисление, диффузия и ионная имплантация).

Технологический процесс изготовления биполярного транзистора

Сопроводительный лист технологического процесса

Преимущества, получаемые при применении TCAD Создание и оптимизация технологического процесса и конструкции приборов с меньшими финансовыми и временными затратами, чем при традиционном способе разработки новых устройств; Визуализация процессов и структур.

Задачи, решаемые с помощью Sentaurus TCAD Моделирование технологии создания устройства; Моделирование структуры и топологии; Симуляция электрических, тепловых и оптических характеристик сформированных структур, их работы при малых и больших уровнях сигналов, переходных процессов и т.д.; Моделирование тепловых режимов работы структур и механических напряжений в структурах; Оптимизация технологии, конструкции и топологии по заданным критериям.

Программы в составе пакета Sentaurus TCAD Sentaurus Process Sentaurus Device Sentaurus Structure Editor Tecplot Inspect Sentaurus Workbench Sentaurus TCAD For Manufacturing.

Метод конечных элементов Область моделирования разбивается на конечное число элементов; Фиксируется конечное число точек (узлов), принадлежащих элементу; В каждом узле задается значение искомой величины; С помощью аппроксимирующих функций находится значение искомой величины внутри области.

Конечные элементы

Входные параметры для моделирования технологии Материал, тип и концентрация легирующих примесей; Геометрия масок; Технологические параметры.

Выходные параметры моделирования технологии Профили распределения примесей; Геометрия и структура прибора; Сетка конечных элементов.

Входные параметры моделирования прибора Структура прибора, профили распределения концентрации легирующих примесей; Граничные условия, например, напряжения на электродах; Сетка конечных элементов.

Выходные параметры моделирования прибора Концентрация носителей заряда; Плотность тока; Электрические поля; Скорости генерации и рекомбинации носителей заряда; Оптические и тепловые характеристики прибора.

Материалы, используемые в моделируемых структурах Кремний (монокристаллический, поликристаллический); Германий, соединения типа А 3 В 5 ; Оксид и нитрид кремния; Фоторезист; Металлы: алюминий, медь и др.; Материалы, задаваемые пользователем.

Что определяет точность результатов моделирования? Правильное понимание технологического процесса; Правильное построение сетки конечных элементов; Правильный выбор математической модели для описания технологических процессов и электрофизических параметров полученных структур.

Способы описания геометрии и топологии Координатный; Structure Editor (моделирование 2D и 3D структур, эмулятор 3D процессов, построение сетки и учет легирования); Ligament Layout Editor (топология, шаблоны).

Sentaurus Structure Editor

Построение сетки элементов

Ligament Layout Editor

Sentaurus Process

Ligament Flow Editor

Sentaurus Device

Позволяет извлекать SPICE модели и проводить статистический анализ работы устройства уже на ранних этапах проектирования. Пакет пригоден для анализа: - структур традиционных СБИС вплоть до 100 нм топологии; - устройств SOI, где обеспечивается хорошая сходимость и точность расчетов; -устройств с двойным затвором и FinFET, в которых необходимо учитывать квантовые эффекты, определяющие транспорт носителей заряда; -устройства на основе SiGe; -тонкопленочные транзисторы; -устройства оптоэлектроники; -гетеропереходы в составе HEMT (high-electron-mobility transistor – транзистор с высокой подвижностью электронов, ВПЭ- транзистор) и HBT (heterojunction bipolar transistor – биполярный гетеротранзистор); - полупроводниковые силовые и радиочастотные устройства.

Tecplot

Inspect

Sentaurus Workbench Оболочка, которая интегрирует все модули TCAD для планирования, организации и выполнения моделирования технологии изготовления прибора, измерения его характеристик, обмена информацией между модулями в рамках одного проекта