НОВЫЕ ЛАЗЕРНЫЕ ТЕХНОЛОГИИ ОБРАБОТКИ МАТЕРИАЛОВ. ИКУФ Nd:YAG 1064 нм 700 нм 400 нм 9.4 мкм10.6 мкм СО 2 лазер Эксимерные ArF: 193 нм KrF: 248 нм XeCl:

Презентация:



Advertisements
Похожие презентации
Оценка перспектив применения новейших волоконных лазеров в процессах резки, сварки и поверхностной обработки. К.т.н.Скрипченко А.И. АртЛазер Институт Сварки.
Advertisements

Программа Президиума РАН Отделение нанотехнологий и информационных технологий Проект 27.4 «Физические основы электронно-пучковой наноструктуризации металлов.
6 мкм Выполнил: Нго В.Т. Гр.В 4216 Преподаватель: Серебряков.В.А Санкт-петербург 2016 г.
Магистерская диссертация: «Структурно-фазовое состояние титана, легированного под воздействием электронных пучков» Магистрант Шиманский Виталий Игоревич.
Институт прикладной физики РАН Производство поликристаллических алмазных пленок методом осаждения из паровой фазы Нижний Новгород, 2005г.
Применение лазерных методов для упрочнения и восстановления деталей машин и оборудования Девойно Олег Георгиевич, доктор технических наук, г. Минск БЕЛОРУССКИЙ.
Современные технологии и станки лазерной маркировки и микрообработки для промышленных применений.
Федеральное государственное бюджетное учреждение науки Институт общей физики им. А.М. Прохорова Российской академии наук (ИОФ РАН) Научно-популярный курс.
«НАНОЛИТОГРАФИЯ» Стефанович Г.Б.. Одним из определяющих технологических процессов в микроэлектронике в течение более 40 лет продолжает оставаться литография.
СТРУКТУРА, ФАЗОВЫЙ СОСТАВ И МЕХАНИЧЕСКИЕ СВОЙСТВА ТВЕРДОГО СПЛАВА Т 15 К 6, ОБЛУЧЕННОГО СИЛЬНОТОЧНЫМИ ЭЛЕКТРОННЫМИ ПУЧКАМИ Научный руководитель профессор.
Сверление Электронным пучком Выполнил студент гр.350-1: Н.А. Прокопенко Проверил Доцент кафедры ЭП: А.И. Аксенов Министерство образования и науки Российской.
Полупроводниковые лазеры. Полупроводниковым лазером называют оптоэлектронное устройство, генерирующее когерентное излучение при пропускание через него.
Модификация структуры и механических свойств быстрорежущей стали Р18 при комбинированном плазменном и термическом воздействии Магистерская работа Бибик.
Разработка лазерных методов ИК спектрометрии для анализа примесей в полупроводниковых материалах Выпускница: Чернышова Елена Игоревна Руководитель работы:
LOGO П РОМЫШЛЕННЫЕ ПРИМЕНЕНИЯ ТЕХНОЛОГИИ ЛАЗЕРНОЙ ОЧИСТКИ МЕТАЛЛОКОНСТРУКЦИЙ. группа компаний «Лазерные Технологии»
1 Лазерные технологии РЕГИОНАЛЬНОГО ИНЖИНИРИНГОВОГО ЦЕНТРА В.Т. Комаров к.т.н., начальник отдела РИЦ, эксперт Реестра научно-технической сферы 2014 г.
Лазерно-ультразвуковая структуроскопия металлов структуроскопия металлов.
Технические предложения. создание в середине 2000 годов волоконного лазера – революция в технике генерации лазерного излучения Абсолютное согласование.
Санкт-Петербург. 02 июля 2014 года. ООО «Лазерный Центр» Горный С.Г. Существенно-лазерные процессы обработки металлов.
Перспективные лазерные технологии В производстве печатных плат.
Транксрипт:

НОВЫЕ ЛАЗЕРНЫЕ ТЕХНОЛОГИИ ОБРАБОТКИ МАТЕРИАЛОВ

ИКУФ Nd:YAG 1064 нм 700 нм 400 нм 9.4 мкм 10.6 мкм СО 2 лазер Эксимерные ArF: 193 нм KrF: 248 нм XeCl: 308 нм Излучение Материалы Технологии Рекордно высокие мощности и энергии импульса лазерного излучения Стали и сплавы, особенно твердые и жаропрочные (иногда полупроводники и пластики) Начало лазерных технологий Резка, сварка, пробивка отверстий, упрочнение термообработкой, нанесение покрытий, наплавка

ИКУФ Nd:YAG 1064 нм 800 нм 1500 нм 700 нм 400 нм волоконные лазеры с диодной накачкой диодные лазеры 9.4 мкм 10.6 мкм СО 2 лазер Nd:YAG удвоение частоты 532 нм Nd:YAG утроение частоты 355 нм Эксимерные ArF: 193 нм KrF: 248 нм XeCl: 308 нм Современные технологии Излучение Материалы Технологии Расширение ближнего ИК диапазона, умножение частот Использование ультракоротких (нано- и пикосекундных) импульсов Плавное и точное регулирование мощности / энергии Стекло, пластики, керамика, полупроводники Технологии основаны на нетепловом воздействии лазерного излучения и нелинейных оптических эффектах

Лазерные технологии обработки неметаллических материалов

Лазерная сварка пластмасс 1 – частично прозрачный пластик 2 – поглощающий пластик 3 – лазерный пучок 4 – зона лазерного нагрева 5 – сварной шов ЛАЗЕРНОЕ ИЗЛУЧЕНИЕ ДАВЛЕНИЕ

черный прозрачный черный цветной цветной 1 цветной 2 цветной 1 прозрачный белый Возрастание сложности сварки пластмасс

Сварка пленок через маску – плотность выходной мощности оптического излучения более 1 к Вт/см 2 – плотность энергии оптического импульса до 0,5 Дж/см 2 – длительность оптического импульса до 0,5 мс Диодные линейки и диодные матрицы:

Сварка кварцевых труб контакт СТЕКЛО - СТЕКЛО контакт СТЕКЛО - МЕТАЛЛ Непрерывный СО 2 – лазер, мощность до 50 Вт Управление процессом за счет подбора скорости вращения деталей

Сварка стекла с высоким КТР ультракороткий лазерный импульс многофотонная ионизация, генерация плазмы нагрев и плавление стекла «рекристаллизация» расплава Сварка прозрачных материалов без поглощающих прослоек Возможна сварка разнородных материалов

Сварка стекла с высоким КТР Излучение Материалы Технологии Длительности импульса – 10 – 30 пс (10 – сек) Энергии импульса 0,5 – 3 мк Дж стекло + стекло стекло + кремний стекло + корундовая керамика Скорость сварки до 10 мм/с ограничена возможностями существующих установок

Сверление стекла СО 2 - лазером Толщина стекла 100 – 700 мкм Диаметр отверстий 400 мкм линза предварительный нагрев сверление длительность импульса

Сверление стекла излучением эксимерного лазера ArF эксимерный лазер с длиной волны 193 нм Диаметр отверстий 100 мкм Толщина пластинки боросиликатного стекла до 5 мм Формирование канала за импульсов

Резка стекла Материал боросиликатное стекло Толщина 100 мкм - 1 мм Длина волны излучения 355 нм Скорость резки 37.5 мм/сек - 20 мм/сек

Лазерное ударное упрочнение (Laser shock peening)

Принципиальная схема обработки Лазерный импульс Материал Ударная волна Непрозрачное покрытие Плазма Прозрачное покрытие (вода)

Тип установки: импульсный лазер Nd: стекло или Nd:YAG Параметры лазерного излучения: длина волны, λ 1064 нм энергия импульса, Е 1 ÷ 100 Дж плотность мощности, q 10 9 ÷ Вт/см 2 длительность импульса, τ 10 ÷ 50 нс размер лазерного пучка на поверхности, d 1 ÷ 10 мм давление ударной волны до 10 ГПа остаточные напряжения до 1 ГПа

Сжимающие напряжения в титановых сплавах после механической и лазерной ударной обработок

Обрабатываемые материалы алюминиевые сплавы титановые сплавы никелевые сплавы стали Применения лазерного ударного упрочнения компоненты авиационных двигателей; компоненты, критичные к усталости: бортовые переборки; узлы крепления крыла; тормозные элементы; шасси и т.д.; повышение надежности сварных титановых и алюминиевых компонентов; противодействие усталости, усталости вследствие фреттинг-коррозии, трещинообразованию от коррозии под напряжением для крепежных элементов и отверстий под крепеж; повышение выносливости приводных механизмов вертолетов

Зона лазерного воздействия на поверхности титанового сплава λ = 10,6 мкм Е = 4,5 Дж q = Вт/см 2 τ = 4 мкм d = 1,52 мм

Поверхность образца алюминия после лазерной обработки λ = 1064 нм Е = 600 м Дж q = 10 9 Вт/см 2 τ = 10 нс d = 1,5 мм F и = 20 Гц k = 0,2 мм

Распределение микротвердости по глубине поперечного шлифа сплав В95 сплав Д16Т

Установки для лазерного ударного упрочнения компании Metal Improvement Company

Установки для лазерного ударного упрочнения Шеньянский институт автоматизации λ = 1064 нм Е = 25 Дж τ = нс F и = 4 Гц

Laser shock forming

Nd:YAG лазер λ = 1064 нм Е = 33 ÷133 м Дж τ = 5-7 нс d = 43,3 мкм F и = 30 Гц абляционный материал: полиэстер, лента (0,07 мм) глубина: 0, мкм диаметр: 130 – 180 мкм Лазерное текстурирование поверхности

Селективное лазерное спекание Фунциональные биоимплантаты Керамика с градиентом электрофизических свойств Спеченный порошок Неспеченный порошок Лазерный пучок Система сканирования Лазер Система подачи порошка

Синтез каталитически активных материалов Способ получения Каталит. актив-сть, % Селектив- ность % Отжиг в муфельной печи Излучение СО 2 – лазера Р = 50 Вт, v = 16,7 мм/сек, 3 прохода Излучение СО 2 – лазера Р = 45 Вт, v = 3,3 мм/сек, 1 проход Ni(NO 3 ) 2 6H 2 O NiO x

Синтез каталитически активных материалов 2, град 4242,54343,54444,5 42,842,94343,143,243,343,443,543,6 гомологическое искажение структуры после лазерной обработки мало дефектная структура после термического отжига Деление линий на мультиплеты появляется только при обработке с оплавлением поверхности частиц. Количество линий в мультиплете зависит от типа исходной соли Ni. Количество линий в мультиплете различно для различны hkl. Количество линий в мультиплете не зависит от режима лазерной обработки. Расстояние между линиями в мультиплете зависит от режима лазерной обработки. Закономерности структурных изменений: Возможные объяснения: Систематические искажения решетки, связанные с понижением симметрии Появление новых нестехиометрических по составу фаз Упорядочение дефектов структуры